Ennead diseñará planetario en Shanghai

La oficina Ennead Architects ha ganado una competición internacional para diseñar el Shanghai Planetarium (Planetario de Shanghái). El diseño espera elevar "la capacidad tecnológica y científica" del Museo de Ciencia y Tecnología de Shanghái (SSTM, por su sigla en inglés) para cuando la obra finalice en 2018.

"Inspirándose en principios astronómicos para las formas, nuestra estrategia de diseño proporciona una plataforma para la experiencia de movimiento orbital y utiliza eso como una referencia metafórica y generador de forma", señala Ennead Architects en su comunicado oficial.

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Diagrama . Imagen © Thomas Wong / Ennead Architects

"Tres 'cuerpos celestiales' abarcan la arquitectura: el Óculus, el Domo Invertido y la Esfera. Suspendido sobre el acceso principal del museo, el Óculus demuestra el paso del tiempo rastreando un círculo de luz solar en el suelo, a través del acceso a la plaza y el espejo de agua. Entregando una auténtica experiencia del cielo tanto de día como de noche, el Domo Invertido se sienta sobre el atrio central alrededor de la cual todas las galerías están organizadas y por el que pasan todos los visitantes.

© Thomas Wong / Ennead Architects
© Thomas Wong / Ennead Architects

"Finalmente la Esfera contiene la pantalla en forma de cúpula del Planetario: una claraboya alrededor de la Esfera permite que entre la luz solar directamente y marque el paso del tiempo al interior del museo".

Nivel 1. Imagen © Thomas Wong / Ennead Architects
  • Concurso

    Shanghai Planetarium
  • Premio

    Primer Lugar
  • Arquitectos

  • Ubicación

    Lin Gang Da Dao, Pudong Xinqu, Shanghai Shi, China
  • Área

    409028.0 ft² (38000 m²)
  • Año Proyecto

    2018
  • Fotografías

    Thomas Wong / Ennead Architects

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Cita: Rosenfield, Karissa. "Ennead diseñará planetario en Shanghai" [Ennead Tapped to Design Shanghai Planetarium] 17 mar 2015. ArchDaily en Español. (Trad. Valencia, Nicolás) Accedido el . <https://www.archdaily.cl/cl/763948/ennead-disenara-planetario-en-shanghai> ISSN 0719-8914

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