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Primera simetría

  • 10:35 - 29 Mayo, 2019
Primera simetría
Primera simetría

Primera Simetría es la segunda exhibición individual de Raisa Bosich. Su primera muestra, también en Galería NAC, formó parte del primer ciclo de exhibiciones de NAC en 2015, donde se convocó a los primeros miembros que hasta el día de hoy forman parte de los artistas representados por la galería. La exposición, que se inaugura el 5 de junio, estará abierta al público hasta el 29 de junio.

Este proyecto, que relaciona dibujos, pinturas, figuras de madera y metal, es una investigación sistemática sobre ideogramas, elementos esquemáticos y ornamentales encontrados en decoraciones de cerámicas y patrones textiles de diferentes orígenes y culturas. Los elementos que utiliza como referencia son transformados y alejados de su original para así poder revisitarlos con el fin de percibir su forma y provocar una nueva aproximación. Siguiendo una línea de trabajo enmarcada en la abstracción geométrica, Bosich apunta a realzar los patrones utilizados mediante cruces entre pintura y escultura.

La gran mayoría de las formas y estructuras que utiliza provienen de patrones propios del arte precolombino. Su interés por estas formas radica en un lenguaje visual común que comparten culturas tan distantes como los mayas y los egipcios. De esta manera, es posible encontrar similitudes dentro de esta variedad de lenguajes pasando por la arquitectura y el estudio de los símbolos.

El resultado de esta investigación es Primera Simetría, un estudio sobre patrones y formas de un mundo antiguo súbitamente actualizado mediante lo visual. Especial relevancia toma aquí la abstracción, que al igual que los patrones a los que la artista hace referencia, se encuentran muy cerca de las formas y los ciclos naturales, no para poder representarlos, sino más bien para comportarse como ellos.

Raisa Bosich. Santiago de Chile, 1988

Licenciada en Artes Visuales de la Universidad de Chile con mención en pintura (2010) y en 2013 realizó un diplomado en animación 3D en academia MAC. Ha participado de varias exposiciones colectivas en Chile, Perú, Francia, Alemania, Suiza y Reino Unido. Dentro de las cuales destaca: “Inside Job” en Tate Modern en Londres (2018), “Against a
Conspiracy of Invisibilities” en Sobering Galerie en París (2016), “SUB 30 Pintura en Chile” en el Museo de Arte Contemporáneo (2014) y “Drawing by Numbers” en el Centro Providencia (2014) en Chile. En 2015 realiza “Extender una línea” en Galería NAC y este año presenta: ”Primera Simetría”. También ha participado en diferentes ferias de arte nacionales e internacionales en Argentina, España y Francia. Además participó en la residencia artística Espai Colona en Barcelona. Actualmente vive y trabaja en Chile donde es representada por Galería NAC.

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Cita: "Primera simetría" 29 may 2019. Plataforma Arquitectura. Accedido el . <https://www.plataformaarquitectura.cl/cl/918088/primera-simetria> ISSN 0719-8914

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